El TiO2 es un semiconductor de energía de banda prohibida ancha con propiedades fotocatalíti-cas bien conocidas, las cuales tienen enorme potencial en procesos de control de contaminación de la fase líquida y gaseosa bajo la irradiación de luz ultravioleta. Dicha potencialidad aumentaría si el proceso fotocatalítico se pudiera dar con la presencia de luz visible. En este trabajo se reporta el crecimiento de películas delgadas de TiO2 usando sputtering reactivo de radio frecuencia (r.f.), variando la presión par-cial (O2/Ar/N) de N, con el fin de incorporar un bajo contenido de este en las mismas. La disminución del ancho de banda de energía prohibida de las películas con el contenido de N, fue obtenida usando un es-pectrofotómetro UV-Vis. La actividad fotocatalítica fue evaluada por la decoloración de una solución de azul de metileno en agua, en la cual fue inmersa cada película expuesta a la radiación de luz blanca pro-veniente de una lámpara de Xenón. La eficiencia de las películas bajo la acción de luz visible fue caracte-rizada midiendo con espectrofotómetro, la solución luego del proceso.

TiO2 is a semiconductor of wide forbidden energy band with well-known photocatalytic proper-ties, which have a lot of potential in liquid and gas phase contamination control process through ultraviolet light radiation. This potentiality increases if the photocatalytic process could be with presence of visible light. In this work is reported the growth of TiO2 thin films by radio frequency reactive sputtering (r.f.), changing the N partial pressure (O2/Ar/N) in order to incorporate a N low content. The decrease in forbid-den band energy of these films related to N content, were obtained using an UV-Vis spectrophotometer. The photocatalytic activity were evaluated by photobleaching of a methilene blue solution in water, in which was immersed each film and exposed to white light from a Xenon lamp. Efficiency in the films under visible light action was characterized measuring the solution after process, by spectrophotometer.

Keywords : sputtering rf, TiO 2, Photocatalytic activity.