| Resumenes
Vol. 38 No.1 de 2006 |
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NANOLITOGRAFÍA POR OXIDACIÓN LOCAL DE PELÍCULAS DELGADAS DE NITRURO DE TITANIO USANDO EL MICROSCOPIO DE FUERZA ATÓMICA |
Francisco J. Martínez T., Diego F. Arias M., Alfonso Devia C. |
Utilizando el Microscopio de Barrido por Sonda en su modo de Microscopia de Fuerza Atómica se ha inducido la oxidación local en la superficie de películas de Nitruro de Titanio (TiN). La oxida-ción fue generada usando una punta de silicio recubierta por oro y otra recubierta de diamante. Aplicando un potencial negativo al sustrato ha permitido generar líneas de Óxido de Titanio sobre la superficie de la película de TiN. El ancho de los patrones de oxidación cambia con la humedad relativa cuyas dimensiones fueron aproximadamente de 618 nm y 418 nm para un 85 % y 78 % de humedad relativa respectivamente: La altura de los patrones son relativamente constantes (aproximadamente 8 nm).
Palabras claves: Nanolitografía, TiN, Thin films, SPM.
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Using the Scanning Probe Microscope in its Atomic Force Microscopy mode, local oxidation has been induced over surfaces of Titanium Nitride (TiN) films. Oxidation was generated by using a probe made of gold-coated silicon, and another one coated with diamond. Applying a negative voltage to the substrate has permitted the generation of Titanium Oxide lines over the surface of the TiN film. The width of the oxidation patterns changes with relative humidity, with dimensions at 618 nm and 418 nm approximately for 85 % and 78 % of relative humidity, respectively. The height of patterns is relatively constant (8 nm approximately).
Keywords: Nanolitography, TiN, Thin films, SPM.
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